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光刻技術，走下「神壇」
光刻機，向來被視為半導體制造的命脈。但近期多家芯片巨頭釋放的信息顯示，未來光刻技術可能不再是唯一選擇，即便是很難搶到的High-NA EUV，也多處于“閑置”狀態。第四代半導體，破曉時刻
全球首顆第四代半導體氧化鎵8英寸單晶，刷新了氧化鎵單晶尺寸的全球紀錄。這一成果，也標志著中國氧化鎵率先進入8英寸時代。分析師解讀阿斯麥「爆雷」
由于財測下調，阿斯麥美股ADR在周二遭遇暴跌，最終收跌16.26%至730.43美元，創下了1998年以來的最大單日跌幅。投資界24h | 俄羅斯宣布造出首臺350nm光刻機； 95后，一舉融資70億；安徽引導金一舉要投7家GP
公司背后，是一位95后華人少年Alexandr Wang。19歲那年，他從麻省理工學院退學，和同樣從卡內基梅隆大學退學的Lucy Guo創辦了Scale AI。都說AI燒錢，但Scale AI卻成為全...全球光刻機巨頭，一夜跌沒1968億
4月17日，光刻機巨頭阿斯麥發布了2024年第一季度財報。財報顯示，公司一季度銷售額為52.9億歐元，同比下降22%，環比下降27%；凈利潤為12.24億歐元，環比下降40%。High-NA EUV光刻機入場，究竟有多強？
英特爾獲得的全球首臺High-NA EUV光刻機不僅標志著該公司在半導體制造領域的一大進步，也展示出其在推動先進光刻技術發展方面的決心和能力。EUV光刻機，大結局？
瑞利判據一直是光刻機發展的根本遵循，被光刻產業界奉為“金科玉律”。當前的光刻機發展已經進入高NA(Numerical aperture，數值孔徑)的EUV光刻時代，制程可達2nm及以下，預計2025年...ASML：從飛利浦棄兒到光刻之王
ASML高歌猛進于2017年推出了TWINSCANNXE:3400B，將光刻機的制程（即最小的電路柵格間距離）從7納米推到了5納米。而由此，ASML的光刻霸主地位也最終確定。光刻機發展要另辟蹊徑？
光刻機從誕生到現在，經歷了多次迭代，發展出了多種應用技術，為了應對不斷發展的應用需求，新的技術高峰和難題也在等待業界去攀登和攻克。
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